上海伯東提供適用于薄膜太陽能電池生產的離子源和真空系統

2023

10-12

14:28:26

 257

來源：伯東貿易（深圳）有限公司

沒有真空, 就不可能有可再生能源. 例如光伏發電 PV, 這是一種廣為人知的發電方法, 即利用太陽能電池, 通過光伏效應, 將來自太陽的能量轉換為電子流, 從而產生電能.

太陽能電池技術有多種類型, 主要技術之一是基于薄膜沉積. 該技術的主要優勢是太陽能電池生產中的材料消耗低. 除諸如碲化鎘 CdTe 之類材料外, 銅銦鎵硒化物 CIGS 也經常用于吸收層. 這些層可以沉積在玻璃等非柔性基板上, 或者金屬帶材或箔片等柔性基板上, 又或柔性薄玻璃上, 然后須將基板裝入一個大型真空室內. 在該真空腔室內會進行多種 PVD 工藝, 例如濺射或蒸發, 以生成多層太陽能電池. 取決于不同工藝, 為了沉積這些層, 需要 10-3 至 10-6 hPa 范圍內的真空. 由于表面積較大, 高抽速是必不少的并且真空需要潔凈無碳, 以確保高品質涂層.

薄膜沉積真空系統應用要求
維護間隔長, 正常運行時間延長
無碳真空
高抽速, 快速抽空

上海伯東推薦德國 Pfeiffer 真空泵典型配置

型號	大抽速渦輪分子泵 HiPace 2300 U	全磁浮分子泵 ATH 2804 M	羅茨泵組 CombiLine RH 2404 L
圖片
進氣口	DN 250 ISO-F	DN 250 ISO-F	DN 160 ISO-F
氮氣抽速	1900 l/s	2350 l/s	2348 m3/h
極限真空	1X10-7 mbar	< 1X10-8 mbar	1X10-2 mbar

濺射或蒸發工藝要求
滿足多層膜的制備
維護間隔長
膜層致密, 不易脫落

通過使用上海伯東美國 KRi 離子源可實現基板清潔和加速鍍膜材料的濺射速度, 并且離子源在材料沉積過程中可幫助沉積并使沉積后的薄膜更為致密, 膜基附著力更好, 膜層不易脫落. 其中 RF 射頻離子源提供高能量, 低濃度的離子束, 離子源單次工藝時間更長, 適合多層膜的制備和離子濺鍍鍍膜工藝. 上海伯東是美國 KRi 離子源中國總代理.

IBSD 濺射鍍膜離子源

上海伯東美國 KRi 射頻離子源 RFICP 參數:

型號	RFICP 40	RFICP 100	RFICP 140	RFICP 220	RFICP 380
Discharge 陽極	RF 射頻	RF 射頻	RF 射頻	RF 射頻	RF 射頻
離子束流	>100 mA	>350 mA	>600 mA	>800 mA	>1500 mA
離子動能	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V
柵極直徑	4 cm Φ	10 cm Φ	14 cm Φ	22 cm Φ	38 cm Φ
離子束	聚焦, 平行, 散射
流量	3-10 sccm	5-30 sccm	5-30 sccm	10-40 sccm	15-50 sccm
通氣	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型壓力	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr
長度	12.7 cm	23.5 cm	24.6 cm	30 cm	39 cm
直徑	13.5 cm	19.1 cm	24.6 cm	41 cm	59 cm
中和器	LFN 2000

薄膜沉積應用于眾多零部件產品的生產, 例如眼鏡, 手機, 屏幕顯示器等. 一般通過物理氣相沉積 PVD 或化學氣相沉積 CVD 實現. 薄膜直接施加到零部件表面上, 總厚度小于 10 µm. 薄膜沉積需要在真空環境下進行. 上海伯東提供德國 Pfeiffer 真空產品和美國 KRi 考夫曼離子源助力薄膜沉積工藝發展.

RF 射頻離子源

若您需要進一步的了解薄膜太陽能電池生產的離子源和真空系統, 請參考以下聯絡方式

上海伯東: 羅小姐

全年征稿/資訊合作 聯系郵箱：137230772@qq.com

版權與免責聲明

1、凡本網注明"來源：化工機械設備網"的所有作品，版權均屬于化工機械設備網，轉載請必須注明化工機械設備網，http://m.28942.cn/。違反者本網將追究相關法律責任。

2、企業發布的公司新聞、技術文章、資料下載等內容，如涉及侵權、違規遭投訴的，一律由發布企業自行承擔責任，本網有權刪除內容并追溯責任。

3、本網轉載并注明自其它來源的作品，目的在于傳遞更多信息，并不代表本網贊同其觀點或證實其內容的真實性，不承擔此類作品侵權行為的直接責任及連帶責任。其他媒體、網站或個人從本網轉載時，必須保留本網注明的作品來源，并自負版權等法律責任。

4、如涉及作品內容、版權等問題，請在作品發表之日起一周內與本網聯系，否則視為放棄相關權利。