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重慶內藤機械設備有限公司
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簡單介紹： 使用“動態光散射法"的粒度和粒度分布測量系統以及使用“靜態光散射法"的**分子量、回轉半徑和第②維里系數的測量系統。銷售中心-重慶內藤naitokikai
| 粒徑范圍 | ||||
| 1.4 nm ～ 7000 nm (Ar) | ||||
| 3nm～7000nm （氦氖） | ||||
| 翻譯擴散系數 | 2×10 -6 ～ 2×10 -9 cm 2 sec -1 | |||
| 分子量測量范圍 | 3×10 2～ 2×10 7 | |||
| 回轉半徑 | 20～1000納米 | |||
| 第②維里系數 | -1 ～ 20×10 -4 mol?cm 3?g -2 | |||
| DLS-8000HL/HH | DLS-8000DL/DH | |
| 光源 | 氦氖激光器 (10mW) | 氦氖激光器+固體激光器(10mW)（100mW) |
| 探測器 | 光電倍增管（照片計數法） | |
| 細胞 | 21φ圓柱比色池、12φ圓柱比色池、５φ微量比色池（選配） | |
| 電池溫度 | 5～90℃（恒溫循環系統：循環浴-可選） 90～160℃（溫度。控制系統：僅適用于高溫。規格） | |
| 角度范圍 | 5 ～ 160?（自動/步進電機驅動） | |
| 準確性 | ±0.1° | |
| 電源 | AC100V 300VA | |
| 尺寸（WDH） | 440×700×570毫米 | 590×700×570 毫米 |
| 重量 | 約 50公斤 | 約 60公斤 |
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