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KRi 離子源應用于藍玻璃 AR工藝
閱讀：8815 發布時間：2023-7-3KRi 離子源應用于藍玻璃 AR 工藝
配備 800萬或以上像素的手機都基本內嵌藍玻璃濾光片的攝像頭. 藍玻璃濾光片通過 AR Coating 的鍍膜, 可以增加透光率和反射紅外光. 光線在透過不同介質時會產生折射和反射, 當加上單面 AR Coating 后, 濾光片會提升3～5%的透光率, 讓圖像更清晰且讓濾光片不容易起霧. 上海伯東協助某從事光學玻璃鍍膜機生產的客戶, 在光學鏡頭材料藍玻璃 AR工藝方面實現技術突破！
經過推薦客戶采用光學鍍膜機加裝美國進口 KRi 大尺寸射頻離子源 RFICP 380, 在離子清洗, 輔助沉積時, 提高藍玻璃的薄膜 / 基層物的附著性和硬度, 減少吸收殘余氣體的污染物和薄膜應力. 上海伯東美國 KRi 大尺寸射頻離子源 RFICP 380, 利用高均勻性的離子分布及高穩定的離子能量成功搭配于 1米7 的大型蒸鍍設備, 解決了在藍玻璃上無法達到高質量鍍膜要求的問題, 同時也提升了企業生產效能.
應用方向: 離子清洗, 輔助沉積
應用領域: 光學鏡頭
薄膜工藝: 藍玻璃鍍 AR增透膜
產品類別: 濾光片
鍍膜設備: 1米7 的大型蒸鍍設備, 配置美國 KRi 射頻離子源 RFICP 380
測試環境: 80C / 80% 濕度, 85C / 95% 濕度, 連續 1,500 小時高溫高濕嚴苛環境測試
上海伯東美國 KRi 射頻離子源 RFICP 系列, 無需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時間更長! 射頻離子源適合多層膜的制備, 離子濺鍍鍍膜和離子蝕刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均勻性, 附著力等. 上海伯東是美國 KRi 離子源中國總代理.
美國 KRi RFICP 射頻離子源技術參數：
| 型號 | RFICP 40 | RFICP 100 | RFICP 140 | RFICP 220 | RFICP 380 |
| Discharge 陽極 | RF 射頻 | RF 射頻 | RF 射頻 | RF 射頻 | RF 射頻 |
| 離子束流 | >100 mA | >350 mA | >600 mA | >800 mA | >1500 mA |
| 離子動能 | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V |
| 柵極直徑 | 4 cm Φ | 10 cm Φ | 14 cm Φ | 20 cm Φ | 30 cm Φ |
| 離子束 | 聚焦, 平行, 散射 | ||||
| 流量 | 3-10 sccm | 5-30 sccm | 5-30 sccm | 10-40 sccm | 15-50 sccm |
| 通氣 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 | ||||
| 典型壓力 | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr |
| 長度 | 12.7 cm | 23.5 cm | 24.6 cm | 30 cm | 39 cm |
| 直徑 | 13.5 cm | 19.1 cm | 24.6 cm | 41 cm | 59 cm |
| 中和器 | LFN 2000 | ||||
上海伯東同時提供真空系統所需的渦輪分子泵, 真空規, 高真空插板閥等產品, 協助客戶生產研發高質量的真空系統.
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域.
若您需要進一步的了解 KRi 射頻離子源, 請參考以下聯絡方式
上海伯東: 羅先生